Bei der Halbleiter- und Flachbildschirmherstellung wie auch in anderen Hi-Tech-Industrien werden die Linienbreiten kleiner, die Wafergrößen nehmen zu und es kommen immer fortschrittlichere Displaytechnologien zum Einsatz. Daher ist die Kontrolle von gelöstem Gas ein entscheidender Faktor bei der Erzeugung von Reinstwasser für die Mikroelektronik und Halbleitertechnik.
Aufgrund ihrer Effizienz, der einfachen Handhabung und der herausragenden Leistung bei der Gasentfernung werden 3M™ Liqui-Cel™ Membrankontaktoren als der Maßstab bei der Entgasung im Rahmen der Wasseraufbereitung in der Halbleiter- und Flachbildschirmproduktion angesehen. Membrankontaktoren weisen wenig extrahierbare Stoffe auf und beeinträchtigen nicht die Wasserqualität. Bei einem entsprechend ausgelegten System entfernen Sie aus dem Wasser O₂ bis zu einem Gehalt von unter 1 ppb und gelöstes CO₂ bis zu einem Gehalt von 0,5 ppm. Ein geringer Gehalt an Sauerstoff sorgt für eine gute Produktausbeute, während ein niedriger CO₂-Gehalt den Wirkungsgrad von Elektrodeionisations (EDI)- und anderen Ionenaustauschverfahren maximiert.
Im Gegensatz zu herkömmlichen Vakuumkolonnen können Membrankontaktorsysteme erweitert werden. Bei größeren erforderlichen Wassermengen und sinkenden Richtwerten für die gelösten Gase lassen sich diese neuen Anforderungen durch zusätzliche Kontaktoren erfüllen.
3M™Liqui-Cel™ Membrankontaktoren sorgen außerdem für einen niedrigen Gehalt und die präzise Kontrolle von gelösten Gasen in Reinstwasser und anderen für Nassbankprozesse geeigneten Flüssigkeiten.
Produktzeichnungen 2,5 x 8
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3M Separation and Purification Sciences Division
13840 South Lakes Dr.
Charlotte, NC 28273 USA
Telefon:+ 1 980 859 5400
Fax: + 1 980 859 5258
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3M Deutschland GmbH
Öhder Straße 28
42289 Wuppertal Deutschland
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Fax: +49 202 6099 - 750
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