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  • 3M™ R400 Diamond Pad Conditioner Bar, Semischarf, 2,9 cm Höhe
  • 3M™ R400 Diamond Pad Conditioner Bar, Semischarf, 2,9 cm Höhe

    3M-ID 7000044746
    • Reduktion der Wartungsintervalle, dadurch Reduktion der "Cost of Ownership"
    • Verlängerte Standzeit von Pad und Pad-Conditionier
    • Sehr zuverlässige Diamanthalterung, aufgrund einer chemischen und mechanischen Bindung in der Metallmatrix
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    Produktdetails
    • Reduktion der Wartungsintervalle, dadurch Reduktion der "Cost of Ownership"
    • Verlängerte Standzeit von Pad und Pad-Conditionier
    • Sehr zuverlässige Diamanthalterung, aufgrund einer chemischen und mechanischen Bindung in der Metallmatrix

    Die 3M™ Diamond Pad Conditioner Bar wird in anspruchsvollen Semicondutor CMP- (Chemical Mechanical Polishing) Verfahren eingesetzt.

    Die Diamond Pad Conditioner Bar basiert auf der 3M™ Sintered Abrasive Technology für eine besondere Diamantenpositionierung, Diamanten-Halterung und einem definierten Diamanten-Überstand in der Metallmatrix.