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  • 3M™ A160 DIA Pad Conditioner 4,25 IN
  • 3M™ A160 DIA Pad Conditioner 4,25 IN

    • Reduktion der Wartungsintervalle, dadurch Reduktion der "Cost of Ownership"
    • Verlängerte Standzeit von Pad und Pad-Conditionier
    • Sehr zuverlässige Diamanthalterung, aufgrund einer chemischen und mechanischen Bindung in der Metallmatrix
    • Das exklusive Polymersubstrat verbessert die Korrosionsbeständigkeit
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    Produktdetails

    Der 3M™ A160 DIA Pad Conditioner 4,25 IN wird in anspruchsvollen Semicondutor CMP- (Chemical Mechanical Polishing) Verfahren eingesetzt.

    Der 3M™ A160 DIA Pad Conditioner 4,25 IN basiert auf der 3M™ Sintered Abrasive Technology, die eine besondere Diamantenpositionierung, Diamanten-Halterung und einem definierten Diamanten-Überstand in der Metallmatix.

    • Reduktion der Wartungsintervalle, dadurch Reduktion der "Cost of Ownership"
    • Verlängerte Standzeit von Pad und Pad-Conditionier
    • Sehr zuverlässige Diamanthalterung, aufgrund einer chemischen und mechanischen Bindung in der Metallmatrix
    • Das exklusive Polymersubstrat verbessert die Korrosionsbeständigkeit
    Spezifikationen
    Gesamtdurchmesser (metrisch)
    107,95 mm
    Trägermaterial
    304 Edelstahl
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