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3M™ R400 Diamond Pad Conditioner Bar, Semischarf, 2,9 cm Höhe

3M-ID 7000044746UPC 00051111616611
  • Reduktion der Wartungsintervalle, dadurch Reduktion der "Cost of Ownership"
  • Verlängerte Standzeit von Pad und Pad-Conditionier
  • Sehr zuverlässige Diamanthalterung, aufgrund einer chemischen und mechanischen Bindung in der Metallmatrix
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Produktdetails
  • Reduktion der Wartungsintervalle, dadurch Reduktion der "Cost of Ownership"
  • Verlängerte Standzeit von Pad und Pad-Conditionier
  • Sehr zuverlässige Diamanthalterung, aufgrund einer chemischen und mechanischen Bindung in der Metallmatrix

Die 3M™ Diamond Pad Conditioner Bar wird in anspruchsvollen Semicondutor CMP- (Chemical Mechanical Polishing) Verfahren eingesetzt.

Die Diamond Pad Conditioner Bar basiert auf der 3M™ Sintered Abrasive Technology für eine besondere Diamantenpositionierung, Diamanten-Halterung und einem definierten Diamanten-Überstand in der Metallmatrix.